เม็ดโบรอนผลึกบริสุทธิ์ 99.999% สำหรับใช้เป็นสารเติมแต่งในแผ่นเวเฟอร์ซิลิกา
เม็ดโบรอนผลึกบริสุทธิ์ 99.999% สำหรับใช้เป็นสารเจือปนในเวเฟอร์ซิลิกา มีการใช้งานอย่างแพร่หลายในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์โครงสร้างผลึกที่หนาแน่นช่วยให้ประสิทธิภาพการเจือปนมีเสถียรภาพ โดยมีสารปนเปื้อนระเหยน้อยที่สุดในระหว่างกระบวนการผลิตที่อุณหภูมิสูงในฐานะวัสดุเจือปนชนิด p ที่สำคัญ จึงเหมาะสมอย่างยิ่งสำหรับการผลิตเวเฟอร์ซิลิคอนผลึกเดี่ยวสำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และเซลล์แสงอาทิตย์ ขนาดอนุภาคที่สม่ำเสมอช่วยให้การแพร่กระจายภายในพื้นผิวซิลิคอนเป็นไปอย่างสม่ำเสมอ ช่วยให้เวเฟอร์มีค่าการนำไฟฟ้าที่เสถียร
การควบคุมการทำให้บริสุทธิ์อย่างเข้มงวดช่วยลดสิ่งเจือปนที่เป็นโลหะและก๊าซลงเหลือในระดับต่ำมาก ซึ่งตรงตามข้อกำหนดมาตรฐานระดับสูงของการผลิตชิปและเซลล์แสงอาทิตย์ขั้นสูงอย่างเต็มที่ รูปแบบเม็ดที่ไหลได้ดีช่วยให้ป้อนและจัดการได้อย่างปลอดภัยในเตาเผาโดปปิ้งระดับอุตสาหกรรม
ดัชนีผลิตภัณฑ์:
| สูตรโมเลกุล: | บี |
| แคส | 7440-42-8 |
| ความหนาแน่น | 2.3 กรัม/ซม³ |
| เฟส | เฟส β-B |
| จุดหลอมเหลว | 2300°C |
| จุดเดือด | 2550°C |
| ความแข็งโมห์ส | ＞9 |
| มวลอะตอมสัมพัทธ์ | 10.81 |
| ไอโซโทปเสถียร | 10B、11B |
| สี | สีเทาเข้ม, สีดำ |
องค์ประกอบทางเคมี:
| เคมี | โบรอนผลึก 2N | โบรอนผลึก 3N | โบรอนผลึก 4N | โบรอนผลึก 5N | โบรอนผลึก 6N |
| บี | ≥99% | ≥99.9% | ≥99.99% | ≥99.999% | ≥99.9999% |
| เฟ | ≤500 ppm | ≤200 ppm | ≤90 ppm | ≤8 ppm | ≤0.5 ppm |
| ที่ | ≤2.5 ppm | ≤0.08 ppm | ≤0.06 ppm | ≤0.02 ppm | ≤0.02 ppm |
| ที่ | ≤1 ppm | ≤0.8 ppm | ≤0.3 ppm | ≤0.03 ppm | ≤0.03 ppm |
| กับ | ≤12 ppm | ≤10 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.03 ppm | ≤0.03 ppm |
| ส.น. | ≤30 ppm | ≤9 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.08 ppm |
| มน. | ≤300 ppm | ≤3 ppm | ≤1.1 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.07 ppm |
| ตะกั่ว | ≤0.08 ppm | ≤0.3 ppm | ≤1.1 ppm | ≤0.08 ppm | ≤0.02 ppm |
| ที่ | / | ≤18 ppm | ≤0.2 ppm | ≤0.1 ppm | ≤0.01 ppm |
| เช่น | / | / | / | ≤0.08 ppm | ≤0.01 ppm |
| ใน | / | / | / | ≤0.05 ppm | ≤0.02 ppm |
| เก | / | / | / | ≤0.05 ppm | ≤0.04 ppm |
ขนาดและบรรจุภัณฑ์โดยทั่วไป:
| ปริมาณโบรอน | ขนาดทั่วไป | บรรจุุภัณฑ์ |
| 99 | 1-5 ไมโครเมตร, 10-30 ไมโครเมตร, 50-100 ไมโครเมตร | บรรจุ 1 กก./5 กก. ในถุงฟอยล์อลูมิเนียมสุญญากาศ (เฉพาะผงนาโนเท่านั้นที่ปิดผนึก ไม่มีการดูดอากาศ) |
| 99.9 | -200 เมช, 0-10 ไมโครเมตร, 1-10 มิลลิเมตร | ชนิดผง: บรรจุ 1 กก./5 กก. ในถุงฟอยล์อลูมิเนียมสุญญากาศ
ชนิดเม็ด: บรรจุ 50 กรัม/500 กรัม/1000 กรัม ในขวด PP บรรจุด้วยก๊าซเฉื่อยเพื่อป้องกันการรั่วไหล |
| 99.99 | -200Mesh, 1-10mm | บรรจุในขวด PP ขนาด 50 กรัม/100 กรัม พร้อมซีลกันก๊าซเฉื่อย |
| 99.999 | ||
| 99.9999 |
แอปพลิเคชัน:
1. การประยุกต์ใช้โบรอนผลึกในอุตสาหกรรมนิวเคลียร์:
Crystalline boron plays a crucial role in the nuclear energy field. It can be used as a neutralization control material in nuclear reactors. Boron can compensate for and regulate neutralization reactivity and to facilitate emergency shutdowns. Thus maintains stable reactor operation. Crystalline boron not only has a high neutralization absorption cutoff but also a wide range of neutralization energy absorption, effectively reducing or regulating the neutralization flux generated by nuclear energy. Thereby it ensures the safety of the nuclear energy system.
2. Applications of Crystalline Boron in Semiconductor Manufacturing:
Crystalline boron is also widely used in the semiconductor industry. As a p-type dopant, crystalline boron can be used to modify the conductivity of semiconductor materials. By doping crystalline boron into silicon Ingot, the conductivity properties of silicon can be altered. Then manufacture semiconductor devices with different conductivity types, such as diodes and field-effect transistors. In addition, crystalline boron can also be used as a raw material for growing long-lasting semiconductor single-crystal materials. Boron-doped silicon single crystals can be grown using a melt-blown method for fabricating high-performance semiconductor devices.
99.9% purity crystalline boron powder is used in the production of solar silicon wafers as a substrate dopant for P-type silicon wafers and as a boron emitter diffuser for N-type silicon wafers. High-purity boron powders of 5N and 6N can be used as dopants for P-type semiconductors to alter their conductivity and are used in the production of high-purity silicon wafers.
3. Application of crystalline boron in semiconductor sputtering targets:
3N and 4N crystalline boron particles can be added to functional alloy products to form targets for semiconductor sputtering coating.
4. Applications of Crystalline Boron in Optics:
Crystalline boron also has extensive applications in optics. Due to its excellent nonlinear optical properties, crystalline boron can achieve functions such as light modulation, frequency sweeping, and frequency doubling. Therefore, crystalline boron is widely used in optical devices, including optical modulators, optical frequency combs, and lasers. Furthermore, crystalline boron can also be used as a gain medium in infrared lasers, exhibiting a large emission cutoff and a wide excitation spectrum range.
5. Crystalline Boron in High-Hardness Ceramic Materials:
โบรอนผลึกยังสามารถใช้ในการเตรียมวัสดุที่มีความแข็งสูง เช่น โบรอนคาร์ไบด์ (B4C) และสารประกอบกราไฟต์โบรอน (Bg) โบรอนคาร์ไบด์เป็นวัสดุเซรามิกที่แข็งมาก มีความทนทานต่อการสึกหรอและทนต่ออุณหภูมิสูงได้ดีเยี่ยม จึงถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในการผลิตเกราะกันกระสุน เครื่องมือแข็ง วัสดุขัดถู และเซรามิกที่ทนต่อการสึกหรอ สารประกอบกราไฟต์โบรอนเป็นวัสดุที่มีโครงสร้างคล้ายกราไฟต์ มีคุณสมบัติการนำไฟฟ้าสูงและเสถียรภาพทางความร้อนสูง และสามารถใช้ในการเตรียมสารยึดเกาะนำไฟฟ้าประสิทธิภาพสูง วัสดุที่นำความร้อนได้ดี และวัสดุเสียดทาน
6. การประยุกต์ใช้โบรอนผลึกในแบตเตอรี่ความร้อน:
แบตเตอรี่ความร้อนเป็นแบตเตอรี่เก็บพลังงานแบบเฟสเดียวที่ทำงานด้วยความร้อน โดยใช้เกลือหลอมเหลวเป็นอิเล็กโทรไลต์ มีข้อดีหลายประการ เช่น ขนาดเล็ก น้ำหนักเบา เก็บพลังงานได้นาน ไม่ต้องบำรุงรักษา ทำงานได้รวดเร็วและเชื่อถือได้ และมีช่วงอุณหภูมิการทำงานที่กว้าง จึงมีการใช้งานอย่างแพร่หลายในอุปกรณ์จุดระเบิดของอาวุธยุทธศาสตร์และอาวุธทั่วไปบางชนิด วัสดุขั้วบวกของแบตเตอรี่ความร้อนมีบทบาทสำคัญต่อความจุ ปริมาตร และกำลังไฟฟ้า วัสดุขั้วบวกของแบตเตอรี่ความร้อนได้พัฒนาจากวัสดุที่ใช้แมกนีเซียมและแคลเซียมเป็นหลักในยุคแรก มาเป็นวัสดุที่ใช้ลิเธียมเป็นหลักในปัจจุบัน ตัวอย่างเช่น สารประกอบ Li-B มีข้อดีที่โดดเด่น เช่น ความหนาแน่นพลังงานสูง กำลังไฟฟ้าสูง โพลาไรเซชันต่ำ ศักยภาพทางเคมีไฟฟ้าใกล้เคียงกับลิเธียมบริสุทธิ์ และยังคงเป็นของแข็งที่อุณหภูมิสูงกว่า 600℃ จึงเป็นวัสดุขั้วบวกแบตเตอรี่ความร้อนที่มีศักยภาพมากที่สุดและกำลังถูกนำไปใช้ในแบตเตอรี่ความร้อนระดับสูงมากขึ้นเรื่อยๆ
7. การประยุกต์ใช้โบรอนผลึกในอุตสาหกรรมการทหาร:
โบรอนผลึกสามารถนำไปใช้ในการผลิตวัสดุเซรามิกกันกระสุนโบรอนความบริสุทธิ์สูง สารหน่วงการจุดระเบิดโบรอนความบริสุทธิ์สูง สารช่วยหลอมเชื่อมโบรอนความบริสุทธิ์สูง วัตถุระเบิดโบรอนความบริสุทธิ์สูง และเชื้อเพลิงจรวดที่มีโบรอนความบริสุทธิ์สูง ทั้งแบบที่มีออกซิเจนสูงและแบบที่มีโบรอนความบริสุทธิ์สูง
8. โบรอนผลึกในกระบวนการผลิตโลหะผสม:
โลหะผสมทองแดงโบรอนความบริสุทธิ์สูง, โลหะผสมไทเทเนียมโบรอนความบริสุทธิ์สูง, เหล็กกล้าโพลีคริสตัลไลน์โบรอนความบริสุทธิ์สูง, เครื่องมือทนการสึกหรอแข็งพิเศษโบรอนความบริสุทธิ์สูง, แผ่นเหล็กกล้าทนการกัดกร่อนโบรอนความบริสุทธิ์สูง, โลหะผสมนิกเกิลโบรอนความบริสุทธิ์สูง, โลหะผสมโครเมียมโบรอนความบริสุทธิ์สูง, โลหะผสมลิเธียมโบรอน (วัสดุแบตเตอรี่ชนิดใหม่), โลหะผสมตัวนำยิ่งยวดโบรอน-แมกนีเซียม
9. การประยุกต์ใช้โบรอนผลึกในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศ:
ผงโบรอนผลึกบริสุทธิ์สูงสามารถใช้เป็นวัสดุผงเคลือบนาโนได้ โดยใช้เทคโนโลยีการสปัตเตอร์ในการเคลือบผงวัสดุลงบนพื้นผิวของวัสดุรองรับ ทำให้ชิ้นส่วนมีความทนทานต่อการสึกหรอ การกัดกร่อน อุณหภูมิสูง การออกซิเดชัน และสภาพอากาศ ซึ่งตรงตามข้อกำหนดของเครื่องยนต์ภายใต้สภาวะการใช้งานที่รุนแรงอย่างยิ่งในอุตสาหกรรมการบินและอวกาศ และยังสามารถตอบสนองความต้องการพิเศษในด้านอิเล็กโทรออปติกและสาขาอื่นๆ ได้อีกด้วย
